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微电子工业应用了一种外延工艺,该工艺包括在纳米层中沉积元素,形成一种特殊的晶体结构。该技术中应用最广泛的元素之一是砷。在运行过程中,砷污染扩散到整个工艺设备、生产区域(洁净室、空调)以及行政区域。

CURIUM对受砷污染的洁净室(2 000平方米)、一个储存车间(300平方米)和设备(280吨)进行了去污染。

采样计划和污染阈值已经确定。已经制定了基于不同类型表面的去污染方法。CURIUM公司负责设计在无尘室和不可呼吸的环境中(存在砷和磷)以及含磷设备上的去污染作业。

CURIUM团队对废物进行了包装或移除运输,并跟踪确保了废物在国外的运输以及最终处置。

项目特点

产品

作业面积

2300 m²

进行了去污染的设备量

280吨

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